产品介绍
- Precursor Supply System
- Precursor Supply System是为了薄膜蒸镀而进行的半导体CVD工程上需要的Precursor按照一定的流量与压力安全供应的装置。 本装置有安装Bulk / Process Canister，不需要中断工程也可以持续供应。
Precursor Supply System
- 产品特征
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- Applicable Precursor: TEOS, TICL4, TEB, TEPO, LTO-520, TMB, HCDS, C6H12, 4MS, TBAS, DEZ, LTO-770 & TDMAS
- PLC and touch screen based automation system